经过洁净室的HELPA/ ULPA 过滤器之后，进入洁净室里的空气中微粒已经很少。但是洁净室内的空气中从来都含有悬浮微粒。那么，它们来自何处?
在早期的洁净室, 人工操作大多是这些内部产生的悬浮微粒的主要来源。随着人员防护外袍和着装规定的改善，以及自动化得到普及，人员带来的污染物显着减少了。
工艺过程和处理设备现在被认为是洁净室悬浮微粒的第二个主要的来源。以上就是我要谈论的两种通常存在于洁净室操作中的设备或工艺过程中的悬浮微粒来源。本文将主要报道气体到微粒的转换。
气体到微粒转换可能是一个简单的气体间的化学反应，它产生一种固体或者液体悬浮产物。这样的产品称为二级悬浮微粒，与那些没有气态象征、直接排放在环境中的主要悬浮颗粒不同。二级悬浮微粒经常由均匀成核作用形成，意味着没有凝结的核心。室外空气会引起浓重的气体氛围，如烟雾和薄雾。相似的作用也可以发生在洁净室中。
我把稀释的HCl气体从一个瓶子中导入一条含稀释氨气的透明进料管道里，氨气来自另一个瓶子，从而再现悬浮微粒的产生过程。
通过模拟气体流动，一朵密集的氯化氨云彩形成了，我立刻停止试验，在整个设置上安装了一个排烟罩，把气体排到户外。我保证这项安排是临时的，并且测试系列是短暂的，在这种情况下，我们的环境健康与安全人员才勉强批准了这套装备。
在许多芯片加工厂里，湿的工作台经常被敞开、加热的酸洗槽与加热的碱洗槽十分接近的情况下进行操作。这样的安排似乎会导致发生种化学反应的环境，且非半导体行业人员实际已经推荐了一个有效的以高速率产生悬浮微粒的工序。即使在没有酸或碱微粒产生的情况下，其它气体在洁净室转化为微粒的机会依然有。这些来源通常与产品晶片一起存在于晶片工艺设备中。